Журнал СФУ. Техника и технологии / Структура и фазовый состав поверхностного слоя эластомеров, модифицированных вольфрамом методом магнетронного распыления

Полный текст (.pdf)
Номер
Журнал СФУ. Техника и технологии. 2021 14 (5)
Авторы
Калистратова, Л. Ф.; Рогачев, Е. А.; Суриков, В. И.; Кузнецова, Ю. В.
Контактная информация
Калистратова, Л. Ф.: Омский государственный технический университет Российская Федерация, Омск; Рогачев, Е. А.: Омский государственный технический университет Российская Федерация, Омск; Суриков, В. И.: Омский государственный технический университет Российская Федерация, Омск; Кузнецова, Ю. В.: Сургутский государственный университет Российская Федерация, Сургут
Ключевые слова
эластомер; поверхность; вольфрам; модифицирование; структура; зерно; кластер; рентгенографические; микроскопические исследования; elastomer; surface; tungsten; modification; structure; grain; cluster; X‑ray; microscopic studies
Аннотация

В данной работе представлены результаты многоплановых исследований структуры и состава поверхностного слоя вольфрамового покрытия резиновой подложки. Резиновая подложка приготовлена на основе двух каучуков: полихлоропреновый каучук Denka РS‑40А (Байпрен 611) с массовой долей 0,70; остальное – БНКС‑28 АМН. Нанесение вольфрама на поверхность подложки осуществляли методом магнетронного распыления на установке «ADVAVAC VSM‑200». Микроскопические исследования поверхностного слоя образцов, расшифровка рентгенограмм и элементный химический анализ позволили определить структуру и фазовый состав поверхностного слоя в зависимости от времени распыления вольфрама. Показано, что поверхностный слой эластомеров имеет зернистую структуру, которая включает в себя кластерные образования вольфрама, находящегося в атомарном состоянии в виде β-модификации вольфрама (W5), и отдельные включения атомарных элементов, входящих в состав резиновой подложки

Страницы
572–582
DOI
10.17516/1999-494X-0334
Статья в архиве электронных ресурсов СФУ
https://elib.sfu-kras.ru/handle/2311/143415

Лицензия Creative Commons Эта работа лицензируется по лицензии Creative Commons Attribution-NonCommercial 4.0 International License (CC BY-NC 4.0).